| 학회 |
한국고분자학회 |
| 학술대회 |
2021년 봄 (04/07 ~ 04/09, 대전컨벤션센터) |
| 권호 |
46권 1호 |
| 발표분야 |
특수 산업용 불소 고분자 소재 및 기술 |
| 제목 |
불소화 고분자 소재 기반 극자외선 레지스트 개발 |
| 초록 |
13.5 nm 의 단파장 광원을 이용하는 극자외선 리소그래피 (EUVL)는 화학증폭형 포토레지스트 (CAR)와 함께 서서히 고성능 IC 칩의 상업 생산에 투입되기 시작하고 있다. 하지만 EUVL이 보다 큰 규모의 상용화로 성공적으로 진행하기 위해서는 포토레지스트와 관련된 기술적 장애물을 넘어야 한다고 얘기된다. 발표자를 포함한 인하대-포항공대 공동연구진은 EUVL의 효용성을 높이기 위한 레지스트 연구를 진행해 오고 있다. 특히 전자의 존재 하에서 진행 가능한 과불소 화합물의 분해 및 자유 라디칼 생성, 라디칼 간 결합 현상을 이용한 네거티브형 EUV 레지스트 개발연구를 깊은 관심을 가지고 수행해 왔다. 본 발표에서는 촉매량의 첨가제가 필요 없는, 과불소화 단위를 포함하는 불소화 고분자 기반 EUV 레지스트 개발 연구에 대한 소개 및 현재의 진행 결과를 말씀드리고자 한다. |
| 저자 |
이진균1, 오현택1, 구예진1, 김강현2, 이상설2
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| 소속 |
1인하대, 2Postech |
| 키워드 |
Fluorinated polymer; EUV lithography; photoresist
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