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Tin oxo cluster-based Hybrid Organic-Inorganic Photoresist for EUV Lithography
Yeo Kyung Kang, 김명길
한국고분자학회 2022년 봄 학술대회 |
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높은 내식각성을 갖는 EUV lithography(EUVL)용 고불소화 주석산화물 레지스트의 합성 및 리소그래피 특성 평가
안형주, 우지훈, 구예진, 이진균
한국고분자학회 2022년 봄 학술대회 |
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불소화 고분자 소재 기반 극자외선 레지스트 개발
이진균, 오현택, 구예진, 김강현, 이상설
한국고분자학회 2021년 봄 학술대회 |
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Molecular materials Containing a Large amount of Iodine as a Sensitizer to Improve the Performance of Extreme UV Resist
박한빛, 이진균, 구예진
한국고분자학회 2021년 봄 학술대회 |
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Research of Inorganic Extreme Ultraviolet Photoresists Based on Silver Ethyl Xanthate
지형준, 김수찬, 양경민, 유지범, 이영관
한국화학공학회 2021년 봄 학술대회 |
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Synthesis of of Fluorinated Alternating Copolymer and Photolithographic Characterization under High energy Electron-beam and EUV radiation
구예진, 이진균
한국고분자학회 2020년 봄 학술대회 |
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Interpretation of Line Edge Roughness in Extreme-Ultraviolet (EUV) Lithography using Molecular Simulations
박주혜, 이성규, Yannick Vesters, 김명웅, Danilo De Simone, 오혜근, 허수미
한국고분자학회 2019년 봄 학술대회 |
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Study of interfacial roughness in EUV photoresist from a molecular approach
박주혜, 이성규, 김명웅, Yannick Vesters, 오혜근, Danilo De Simone, 허수미
한국고분자학회 2018년 봄 학술대회 |
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EUV 리소그래피 마스크 표면에서의 오염입자의 흡착 및 제거 영향에 관한 연구
이구봉, 김민수, 박진구
한국재료학회 2017년 봄 학술대회 |
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EUV 마스크 표면 재료 및 carbon 오염물 간의 상호작용 및 carbon 오염물 제거를 위한 세정액 연구
송희진, 김민수, 김현태, 최인찬, 장성해, 박진구
한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
