| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2009년 가을 (10/15 ~ 10/16, 서울산업대학교 내 서울테크노파크) |
| 권호 | 13권 2호 |
| 발표분야 | 유무기 하이브리드 소재의 고차구조 제어기술 |
| 제목 | 삼차원 구조제어를 통한 고식각선택비 제어기술 |
| 초록 | 미세 포토리소그라피 공정(sub 100 nm)상에서 발생되고 있는 PR(Photoresist) 패턴간의 모세관력(capillary force)에 의해 패턴이 붕괴되는 문제가 있다. 이 현상을 방지하기 위하여, PR막의 두께를 200nm 이하로 낮추었지만, PR의 코팅 두께가 낮아지는 경우, PR 패턴을 식각 마스크로 이용하여 하부 식각층을 식각할 때, 피식각층에 대한 PR 패턴의 식각 선택비를 충분히 확보할 수 없기 때문에, 회로 패턴을 형성하는 것이 불가능하다. 최근 이러한 단점을 개선하고 공정의 단순화와 공정 비용 절감을 위하여, 반사방지막의 역할을 수행함과 동시에 증착 방법이 간단하고, 충분한 식각 내성을 가지는 spin-on 하드마스크막의 개발이 시급하다. 본 연구는 현재 다층구조의 하드마스크막을 spin-on 단층구조의 유-무기 하이브리드형 하드마스크를 구현하는데 있다. |
| 저자 | 황석호 |
| 소속 | 단국대 |
| 키워드 | 하드마스크; 스핀-온; 유-무기 하이브리드; 식각비 |
