| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 1999년 봄 (04/23 ~ 04/24, 성균관대학교) |
| 권호 | 5권 1호, p.1917 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | single liquid solution sources를 이용하여 MOCVD법으로 YBa2Cu3Ox 박막제조 |
| 초록 | 화학증착법(Chemical vaper deposition; CVD)은 가열하여 증기상태로된 원료물질이 반응구역내로 운반가스에 의해 전달되어 기판 표면에서 화학증착 반응을 일으켜 고체상태의 증착층을 얻는 방법으로 고온 초전도 박막의 제조에 많이 이용되는 방법이다. |
| 저자 | 김보련, 이희균, 홍계원, 신형식 |
| 소속 | 전북대 |
| 키워드 | single liquid solution sources; atomizer; THF; L-MFC |
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| 원문파일 | 초록 보기 |
