| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2001년 봄 (04/27 ~ 04/28, 연세대학교) |
| 권호 | 7권 1호, p.2002 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | 유동층 CVD 법에 의한 형광체 마이크로 입자의 Al2O3 박막 코팅 |
| 초록 | 본 연구는 무기 EL인 ZnS:Cu를 유동층 반응기에서 CVD를 이용하여aluminum coating에 대한 연구이다. 무기 EL은 공기중은 수분과 흡착하여 그 성능이 점차 감소하게 되어 이를 coating 하여야 오랜 시간동안 사용할 수 있다. Coating 두께는 EL의 발광에 큰 영향이 있으므로 본 연구에서는 aluminumprecursor를 pulse input 방식으로 공급하여 그 두께를 세밀하게 조절하고자 하였다. 반응기의 재질은 Quartz로 내경은 55 mm, 높이는 700 mm 이다.Precursor로는 aluminum tri-sec-butylate를 사용하였으며,유동화 기체로는 nitrogen을 사용하였다. 공정은 precursor의 공급과 산화를 1 cycle로 하여 반복적으로 수행하였다. 공정 횟수의 증가에 따라 coating 두께가 증가함을 확인하였으며, coating 성분을 분석하여 적절한 조업조건을 찾고자 하였다. |
| 저자 | 김지민, 한귀영, 정찬화 |
| 소속 | 성균관대 |
| 키워드 | Phosphor; CVD; Fluidized bed |
| 원문파일 | 초록 보기 |
