| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2003년 가을 (10/10 ~ 10/11, 부경대학교) |
| 권호 | 28권 2호, p.185 |
| 발표분야 | 분자전자 부문위원회 |
| 제목 | Acid-modified Poly(4-hydroxystyrene)을 이용한 산 촉진 열 가교형 Negative Photoresist의 합성 및 노광 특성 평가 |
| 초록 | Poly(4-hydroxystyrene)(이하PHS) 는 현재 주류를 이루고 있는 deep UV용 photoresist 의 기본 resin 으로서 건식에칭에 대한 높은 내성 및 다양한 보호기의 도입이 가능하여 널리 이용되어져 왔다. 본 연구에서는 ATRP 에 의한 negative 화상을 안정적으로 구현할 수 있는 적정분자량과 분자량분포가 매우 좁은 poly(4-acetoxystyrene) 을 합성한 후 , hydrazine hydrate로 가수 분해하여 PHS 로 변환한 뒤, 얻어진 중합체에 적절한 현상능력 부가를 위해 dissolution promoter 로서 succinic anhydride를 측쇄에 도입하였다. 합성된 중합체의 구조, 분자량 및 optical density를 NMR, GPC, UV spectrometer로 각각 확인하였고 DSC 및 TGA를 이용하여 중합체의 열적 특성을 분석하였다. 기 언급된 분자량이 조절된 PHS와 광산발생제 (PAG) 및 aminoplast 계 crosslinker 등을 PGMEA에 용해시켜 산 촉진 열 가교형 photoresis 를 제조하여 감도, 해상도와 같은 노광 특성을 고찰하였다. |
| 저자 | 조혜진, 김준영, 김태호 |
| 소속 | 성균관대 |
| 키워드 | polyhydroxystyrene; negative photoresist |
