| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2012년 봄 (05/17 ~ 05/18, 무주덕유산리조트) |
| 권호 | 18권 1호 |
| 발표분야 | F. 광기능/디스플레이 재료(Optical Functional and Display Materials) |
| 제목 | 투명전도성 ZnO:AL/Glass 박막의저온 성막공정 및 특성에 관한 연구 Studies on properties of sputtered ZnO:Al/Glass thin film at low temperature. |
| 초록 | 투명전도성 ZnO:AL/Glass 박막의저온 성막공정 및 특성에 관한 연구 Studies on properties of sputtered ZnO:Al/Glass thin film at low temperature. 디스플레이용 투명전극은 많은 화소를 구동시키기 위해 50Ω/ㅁ이하의 낮은 면저항과 가시광선영역의 투과도 80%이상이 요구되어진다.그리고 유기EL에 적층을 요구할 경우 투명전극의 적용이되는 적층의 두께가 100nm이하가 되어야하고, 투명전극의 표면거칠기 및 결정구조가 소자특성을 좌우하는 인자가 된다. 본 연구에서는 디스플레이소자로서 ZnO를 활용하기 위하여 RF-magnetron sputtering 법을 이용하여 유리기판위에 Al-doped ZnO을 상온에서 적층성장을 시켰다. RF power를 100W로 고정을 시켰으며,가스비율을 Ar/O2=1/1 비율로 sputtering 을 하였고 박막두께는 100nm 정도로 하였다. 상온에서 성장된 박막은 일반적으로 비정질 상태인 ZnO 박막이므로 고 순도의 산소분위기에서 600℃의 온도에서 급속열처리방법으로 2분,4분,5분,6분,8분,10분의 시간동안 열처리를 하였으며, 이런 공정의 변수가 Al/ZnO (AZO) 박막의 결정성,우선배향성 및 표면형상, 전기적인 특성에 미치는 영향을 분석을하였다. 급속열처리결과 상온에서 성장한 박막보다 (0002) 결정면이 우월하게 좋은 C-축 우선배향성을 보였다. 본 실험의 결과 600℃ 5분에서 가장 좋은 결과를 나타내었다. 이러한 이유는 고순도의 산소분위기의 열처리에 의한 결정립 (grain)의 재배열을 유도함으로써, 구조적특성을 향상을 시키고 산소중입으로 산화아연의 박막내의 산소공공(Vacancy)를 줄여줌으로써 투과도 80% 이상, 면저항 50Ω/ㅁ이하, 표면거칠기 2nm이하의과학적,구조적,전기적으로 우수한 산화아연 투명전극을 제조할수 있었다. |
| 저자 | 김성진 |
| 소속 | 연세대 |
| 키워드 | ZnO; RTA; XRD; |
