| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2009년 봄 (05/21 ~ 05/22, 무주리조트) |
| 권호 | 15권 1호 |
| 발표분야 | 전자재료 |
| 제목 | FABRICATION OF STAMP FOR NANOIMPRINT PROCESS USING NANOSPHERE LITHOGRAPHY |
| 초록 | 최근 나노크기의 재료는 고밀도 정보저장분야, 광결정, 바이오센서, 광전자소자 분야 등에서 그 기술적, 응용잠재력 때문에 많은 관심을 유도하고 있다. 이러한 나노size의 주기적인 패턴을 형성시키는 기술에는 electron beam lithography (EBL), nanoimprint lithography (NIL) and nanosphere lithography (NSL) 등이 있는데, NIL공정은 stamp 표면의 나노크기 형상을 레지스트(Resist)에 복제하는 공정이다. NIL 기술을 응용하기 위해서는 최종 나노 복제품과 반대형상을 지닌 stamp를 제작하는 기술이 요구 된다. EBL공정은 대면적 패턴형성이 힘들고 비용측면에서 효율적이지 않기 때문에 그 응용에 한계가 있다. NSL은 나노크기의 구형입자의 self-assembled현상을 이용하여 비교적 저가의 공정비용으로 이차원적으로 주기적이고 규칙적인 나노패턴을 제작하는데 유용한 기술이다. NSL은 NIL을 위한 mold뿐만 아니라 광결정 패턴형성에 그 응용이 가능하다. 본 연구에서는 NSL을 이용하여 NIL용 soft polymer stamp를 제작하고 NIL공정을 진행하였다. |
| 저자 | 박정갑, 정근희, 이창형, 주범석, 서수정, 이광근 |
| 소속 | 성균관대 |
| 키워드 | nanoimprint; nanosphere lithography |
