화학공학소재연구정보센터
학회 한국화학공학회
학술대회 2007년 봄 (04/19 ~ 04/20, 울산 롯데호텔)
권호 13권 1호, p.195
발표분야 미립자공학
제목 펄스 SiH4 플라즈마 반응기에서의 입자 성장 제어
초록 본 연구에서는 펄스 SiH4 플라즈마 반응기에서 공정 변수에 따른 입자 성장을 분석하였다. 플라즈마 반응기 내에서 입자들은 체류시간 동안 반응기 내에 머물면서 입자 충돌에 의해 성장한다. plasma-on 동안, 입자 생성의 영향으로 작은 입자들의 농도는 높게 나타났고 작은 입자들간의 충돌에 의해 큰 입자들이 생성된 후 작은 입자들과의 충돌에 의해 큰 입자들이 성장하였다. plasma-off 동안, 입자 생성은 멈추고 작은 입자들은 큰 입자들과의 빠르게 충돌하여 작은 입자들의 농도가 빠르게 감소하였고 큰 입자들은 plasma-on동안보다 느리게 성장하였다. 공정 변수로서 펄스 주파수, 채류시간 등을 조절하여 펄스 SiH4 플라즈마 반응기에서 입자 성장을 제어할 수 있었다.
저자 김동주, 김교선
소속 강원대
키워드 펄스 플라즈마 반응기; 입자 성장 제어; 입자 충돌
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원문파일 초록 보기