| 학회 |
한국재료학회 |
| 학술대회 |
2014년 가을 (11/27 ~ 11/28, 대전컨벤션센터) |
| 권호 |
20권 2호 |
| 발표분야 |
E. 구조 재료(Structural Materials) |
| 제목 |
Yttrium Oxide Coatings by Slurry Plasma Spray and Their Characteristics |
| 초록 |
Y2O3 코팅은 반도체 제조장비의 부품에 내플라즈마성을 향상시키기 위하여 사용되고 있다. 따라서 장비에 사용되는 Y2O3 코팅은 높은 내플라즈마성이 필요하고 고밀도의 코팅이 요구된다. 본 연구에서는 Slurry Plasma Spray (SPS) 를 사용하여 높은 내플라즈마성을 가지는 고밀도 이트리아 코팅을 얻고자 하였다. 이를 위하여 플라즈마 파워 및 건과 기판사이의 거리의 조정 등 다양한 조건에서 SPS를 실시하였다. SPS용 원료로 0.4 μm, 7 μm의 평균입도를 가지는 이트리아 분말을 사용하였다. 코팅의 특성을 평가하기 위하여 XRD, SEM, TEM을 이용하여 코팅층의 결정구조 및 미세구조를 분석하였다. 플라즈마 파워의 증가와 건과 기판사이의 거리 감소에 따라 코팅층의 단사정계 비율이 줄고 입방정상의 비율이 증가하였고, 다공성 구조에서 치밀한 구조로 코팅이 형성되는 경향을 보였다. 또한 XPS, 나노인덴터를 사용하여 SPS조건에 따른 코팅층의 화학적 변화와 기계적 물성을 평가할 것이다. |
| 저자 |
김선주1, 이성민2, 오윤석2, 김성원2, 임대순2
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| 소속 |
1고려대, 2한국세라믹기술원 이천분원 엔지니어링세라믹팀 |
| 키워드 |
Yttrium Oxide; Slurry Plasma Spray
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| E-Mail |
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