| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2009년 봄 (05/21 ~ 05/22, 무주리조트) |
| 권호 | 15권 1호 |
| 발표분야 | 전자재료 |
| 제목 | Patterning of SU-8 photoresist by UV Imprint process. |
| 초록 | Pattern이 형성된 mold를 기초하여 같은 형태의 Pattern을 반복 제작할 수 있는 Nano Imprint Lithography (NIL)는 경화 방식에 따라서 크게 열 경화 방식을 사용하는 Thermal Imprint와 UV 경화 방식을 사용하는 UV-Imprint으로 나눌 수 있다. Thermal Imprint는 임프린팅시 가열과 냉각 공정을 통해 패턴을 얻을 수 있는데 반해 UV Imprint의 경우에는 Imprinting 후 UV 조사에 의해 cured Pattern을 얻을 수 있다. 이러한 Patterning 방식들은 모두 공통적으로 기계적인 몰딩 방식에 기초하고 있어서 여러 기술적인 문제점들이 있는데 그중 가장 큰 비중을 차지하는 것이 Resin의 개발이다. Resin은 그 화학적 특성에 따라서 공정온도와 압력, 시간 등 공정에 관련된 많은 부분을 좌우하는 것은 물론, De-molding 후에도 Plasma Ashing등의 방법으로 residual의 제거를 필요로 하기 때문에 종합적으로 견주어 봤을 때 Imprint lithography 에서 가장 중요한 개발 분야라 할 수 있다. 본 연구에서는 UV-assisted Thermal Imprint 방식을 통해 SU-8 photoresist를 이용한 패턴 제작 공정에 관한 실험을 시행하였다. Photolithography process와 plasma etching 방법으로 패턴을 제작한 mold에 Imprinting 후 mold와 resin의 분리를 용이하게 하기 위해 Vapor 방식을 이용한 SAM(self-assembled-monolayer) coating을 하였다. UV-assisted Thermal Imprint 방법에 의해 공정조건(온도, 압력, Holding time)을 최적화하여 공정 후 Pattern의 형상과 잔류하는 residual을 FE-SEM을 통해 관찰 하였다. |
| 저자 | 최우성, 김남정, 장주희, 이창형, 김종천, 이광근, 박정갑, 서수정 |
| 소속 | 성균관대 |
| 키워드 | SU-8; UV Imprint; Thermal Imprint |
