| 초록 |
나노 단위의 미세한 패턴의 제조 기술은 산업 전반에 걸쳐 필수적인 요소로 자리 잡고 있다. 일반적인 미세 패턴을 제조하는 E-beam lithography, Dip-pen lithography, EUV lithography, Immersion lithography, Laser Interference Lithography와 같은 기술들은 공정이 복잡하거나 생산성이 떨어지며 고가라는 단점을 가지고 있다. 이를 대안하기 위한 기술 중 하나가 나노 트랜스퍼 프린팅(nano transfer printing, nTP)이다. 나노 트랜스퍼 프린팅은 공정이 간단하고 비평면 기판에서의 패턴 형성이 가능하며 다층 구조의 제작 역시 가능하다. 하지만 실제 산업에서 사용되기 위한 넓은 면적 기판에의 적용이 어려운 실정이다. 본 실험에서는 300nm~ 2㎛ 크기의 패턴을 갖는 6inch quartz stamp를 master로 PDMS stamp를 nano-molding 기술을 이용하여 제작하였고 PDMS stamp에 Au층을 증착한 후 나노 트랜스퍼 프린팅 기술을 이용하여 6inch Si wafer 위에 Au 패턴을 형성하는 연구를 진행하였다. |
