| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2012년 가을 (10/11 ~ 10/12, 창원컨벤션센터) |
| 권호 | 37권 2호 |
| 발표분야 | 고분자가공/복합재료 |
| 제목 | POSS를 포함한 PS 및 PMMA 나노 복합체 박막의 특성분석: 유리전이온도, 등온 물리적 시효 및 표면 모폴로지 |
| 초록 | Spin coating 공정을 통해 〜60 nm, 〜200 nm 두께의 polystyrene(PS)/trisilanolphenyl-polyhedral oli gomeric silsesquioxane(TSP-POSS) freestanding 박막과, 〜50 nm, 〜600 nm두께의 polymethylmet hacrylate(PMMA)/methacryl-polyhedral oligomeric silsesquioxane(ma-POSS) freestanding 박막을 제조하였으며, 시차주사열량계(DSC)를 이용하여 유리전이온도와 등온 물리적 시효량을 측정하였다. 다양한 시효시간에 따른 물리적 시효량을 KWW(Kohirausch-Williams-Watts) 식에 적용하였으며, 그 결과를 비교 분석하였다. 그리고 복합체 박막의 건조 온도와 시간에 따른 표면특성을 AFM(Atomic Force Microscope)을 통하여 관찰하였다. |
| 저자 | 박성민, 이종근 |
| 소속 | 금오공과대 |
| 키워드 | PS; PMMA; thinfilm; POSS |
