| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2012년 봄 (04/12 ~ 04/13, 대전컨벤션센터) |
| 권호 | 37권 1호 |
| 발표분야 | 고분자가공/복합재료 |
| 제목 | POSS 함유 PMMA와 PS 나노 복합체 박막의 물리적 시효 |
| 초록 | 본 연구에서는 polymethylmethacrylate(PMMA)에 methacryl-polyhedral oligomeric silsesquioxane (Ma-POSS)를 첨가하여 spin coating 공정을 통해 ~50 nm, ~600 nm 두께의 freestanding 박막을 제조하였고, polystyrene(PS)에 trisilanolphenyl-polyhedral oligomeric silsesquioxane(TSP-POSS)를 첨가하여 위와 동일한 공정을 통해 ~60 nm, ~200 nm 두께의 freestanding 박막을 제조하여 시차주사열량계(DSC)를 이용하여 유리전이온도와 등온 물리적 시효량을 측정하였다. 유리전이온도 이하의 등온에서 다양한 시효시간동안 가열하여 얻은 물리적 시효량을 KWW(Kohlrausch-Williams-Watts) 식에 적용하여 분자의 거동을 비교 분석하였다. |
| 저자 | 박성민, 이종근 |
| 소속 | 금오공과대 |
| 키워드 | PS; PMMA; POSS; thin film; glass transition temperature; physical |
