| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2012년 봄 (04/12 ~ 04/13, 대전컨벤션센터) |
| 권호 | 37권 1호 |
| 발표분야 | 고분자가공/복합재료 |
| 제목 | 나노패터닝 및 양극산화법을 통한 실리콘 나노와이어 및 나노홀 제작에 관한 연구 |
| 초록 | 나노임프린트 공정을 통해 실리콘 기판 위에 나노 패턴을 제작하고, 이를 습식 식각하여 나노 구조를 제작 및 제어하고자 하였다. 실리콘 기판 위의 나노 패턴은 PMMA(polymethylmethacrylate)와 PS(polystyrene)으로 제작하였으며, 식각은 MACE(metal-assisted chemical etching)과 ECE(electro-chemical etching) 방법을 이용하였다. 그 결과, MACE 방법을 통해 높은 종횡비(10:1이상)를 갖는 실리콘 나노 구조를 제작할 수 있었으며, ECE 방법을 통해 다층구조를 갖는 실리콘 기반의 다공성 구조를 제작할 수 있었다. 또한, 두 방법을 통해 제작된 실리콘 나노 구조로부터 광발광 특성을 확인할 수 있었다. |
| 저자 | 김한중, 최대근 |
| 소속 | 한국기계(연) |
| 키워드 | 나노임프린트; 나노구조; 실리콘 나노와이어; 양극산화 |
