| 초록 |
21세기 정보화 사회에서는 영상 산업에 있어서 대형화 및 평면화 그리고 여러 가지기능을 포함하는 디스플레이가 필수적인 것으로 전망된다. 디스플레이의 종류에는 여러 가지가 있지만, 그 중에서도 전기 발광(Electroluminescence, 이하 EL로 표시)을 이용하는 소자는 현재 각광을 받고 있는 LCD와 같은 형태의 소자에 비해 응답 속도가 빠르다는 장점이 있고, 또 발광 형태이므로 휘도가 뛰어나다는 이점을 갖고 있다. 본 연구에서는 유기 박막 소자의 높은 효율성과 낮은 구동 전압으로 밝은 빛을 얻을 수 있는 EL 소자의 제작 공정에 대해 연구하였으며, 본 연구에서 제작되어진 소자의 구조와 유기물의 형태를 Fig. 1에 나타내었다. 면저항이 약 70∼80Ω/□ 인 Indium-Tin-Oxide (ITO)로 코팅되어진 유리기 판은 필요한 패턴 형성을 위해 염산 증기를 이용하여 습식 식각을 행한 후 이 소프로필알코올과 물을 1 : 1로 섞은 용액에 울트라 소닉을 사용하여 세척하 였다. 또한 기판 표면에 남아있는 유기물을 제거하기 위해 톨루엔 증기를 사용 하였다. 패턴이 형성되어진 기판위에 진공 증착법(thermal evaporation)을 사 용하여 유기 박막을 형성하게 되는데, 홀 수송층인 TPD를 약 400Å의 두께로 증착하고, 그 위에 연속적으로 발광층인 Alq3를 약 600Å의 두께로 증착하였 다. 주로 홀이 주입되는 ITO 와 접하여 유기물 층을 보호하는 것으로 알려진 CuPc 층은 Al 박막 밑에 30∼60Å 정도를 증착시켰다.[8] 또한, 하부 전극으로 사용되어지는 Al을 2000Å의 두께로 증착하였다. Alq3 층에서 주입된 전자와 홀이재결합한다고 볼 수 있는데 그 이유는 유기 박막에 대해 EL 방출 스펙트럼이 Alq3 박막의photoluminescence 스펙트럼으로 나타내어지기 때문이다. 다 시 말해서 이 재결합은 약300nm 정도의 거리로 TPD 층에 인접해 있는 Alq3 층에 국한된다는 것이다. 홀 수송층으로 알려진 TPD 층은 Al 전극으로부터 주입되는 전자를 막고, TPD 층과 Alq3 층 사이의 계면에서 효과적으로 재결합 과정을 조절한다.
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