| 초록 |
NiCr 합금을 Thermal evaporator로 Al2O3/Si 기판위에 증착시켰다. Al2O3 절연막은 Al2O3(99.8%)소결체를 E-beam evaporator로 (100)방향을 갖는 p-type의 Si결정위에 증착시켰다. NiCr의 증착방법으로 하나는 0.5g의 NiCr을 한번에 증착하였고, 다른 방법은 0.25g을 2회 증착시켜 NiCr 박막을 형성시켰다. 박막의 열처리 조건에 따른 막의 변화를 관찰하였다. NiCr 박막의 상 변화, 조성변화 및 미세구조 변화를 XRD, AES 및 FE-SEM으로 각각 분석하였다. 열처리 과정에서 박막내부에 존재하는 Cr성분이 표면 쪽으로 확산하여 Cr산화층을 형성하였고, 그 아래의 Ni층과 기판과의 계면에서 Cr산화층이 형성되었다. 특히, 700℃ 열처리에서는 박막내부의 Ni층이 표면의 Cr산화층을 통하여 표면쪽으로 확산되어 표면에 원주형 결정립의 NiO층을 형성하였다. 또, Ni층이 Cr산화층을 통하여 표면에 추가적인 NiO층을 형성하는 과정에서 확산 전의 구조를 유지하는 것은 형성된 Cr산화층의 확산이 상대적으로 Ni층의 확산에 비하여 어려운데 기인한 것이다. |
