| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2011년 가을 (11/02 ~ 11/04, 경원대학교) |
| 권호 | 15권 2호 |
| 발표분야 | 고분자 |
| 제목 | 광경화형 오염방지제 합성 및 물성 평가 |
| 초록 | 최근 디지털 디바이스가 급속히 보급되면서 이를 보호하기 위한 필름에 대한 소비자들의 관심이 나날이 높아지고 있다. 저가형 제품부터 수만원대의 고급 제품까지 가격이나 종류도 천차만별이다. 겉보기에는 비슷한 필름 형태가 많이 사용되고 있지만 원재료와 코팅 및 가공 방법에 따라 고광택, 저반사, 지문방지 등으로 다양하게 구분된다. 본 연구에서는 낮은 표면에너지, 내오염성 등을 갖는 불소계 화합물 중에 과불소 폴리에테르를 지문방지 특성과 관련하여 연구하고자 하였다. 과불소 폴리에테르 변성 화합물과 UV 경화가 가능한 벤조페논을 포함하는 공중합체를 합성하여 NMR, IR 분석 등으로 그 구조를 확인하고, 일반적으로 사용되는 하드 코트에 혼합하여 코팅 및 UV 경화하여 코팅 막의 투과율, 접촉각, 오염 방지 및 제거성 테스트 등의 분석을 실시하였다. |
| 저자 | 이명숙, 김수한, 하종욱, 박인준, 이수복 |
| 소속 | 한국화학(연) |
| 키워드 | 불소; 지문방지; 코팅 |
