화학공학소재연구정보센터
학회 한국화학공학회
학술대회 2006년 가을 (10/27 ~ 10/28, 고려대학교)
권호 12권 2호, p.2451
발표분야 재료
제목 Composition dependent electrical properties of LaxAlyOz nanolaminate films
초록 LaxAlyOz nanolaminate films 을 TiN 기판위에 ALD 방법으로 270 oC 에서 성장 시켰다. 이 때사용한 precursor 는 La(TMHD)3 와 Trimethyl aluminum 그리고 water 를 사용하였다. LaxAlyOz nanolaminate films 의 구조 및 전기적 특성을 XRD, AES, TEM, LCR meter 그리고 Semiconductor Parameter Analyzer 을 사용하여 분석하였다. nanolaminate films 의 조성은 각각 LaAlO2.3 과 La2.4AlO3.3 이며 각 film 의 두께는 약 12 nm 와 25 nm 이다. annealing 후의 전기적 특성의 변화를 측정하였다. 그 결과 500 oC annealing 후에 leakage current density 값이 각각 7×10-7 A/cm2 그리고 3×10-7 A/cm2 로 as-dep. 일때의 7×10-3 A/cm2 와 3×10-5 A/cm2 보다 향상되었다. 유전상수 값은 각각 약 14 그리고 22 로 측정되었다.
저자 김수영, 권 혁, 하정숙, 강동균, 박원태, 김병호
소속 고려대
키워드 high-k
E-Mail
원문파일 초록 보기