화학공학소재연구정보센터
학회 한국화학공학회
학술대회 2002년 가을 (10/24 ~ 10/26, 서울대학교)
권호 8권 2호, p.3433
발표분야 분리기술
제목 회분식 결정화에서 응집 메커니즘 연구
초록 본 연구는 민감화약인 HMX 표면에 NTO를 응집 시켜서 화약의 둔감성을 향상시키는 연구를 수행하였다. 두 물질의 접착은 결정화와 응집을 동시에 조절하여 결정 표면에서 과포화를 형성시키는 방법으로 두 공정에 대한 메커니즘과 특성을 종의 농도에 대한 영향, 응집 메커니즘을 on-line분석장치를 통하여 관찰하였다.
저자 서현호, 김광주
소속 한국화학(연)
키워드 NTO; HMX; Agglomeration
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