| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2009년 가을 (10/15 ~ 10/16, 서울산업대학교 내 서울테크노파크) |
| 권호 | 13권 2호 |
| 발표분야 | 정보전자소재(포스터) |
| 제목 | MOCVD에 의한 ZnO 필름 합성에서 플라즈마 인가 효과 연구 |
| 초록 | ZnO는 3.4 eV의 넓은 밴드갭, 가시광선 영역에서의 우수한 광투과성, 적절히 도핑할 경우 우수한 전기전도도를 갖기 때문에 디스플레이 산업, 정보통신 산업, 태양광 산업 등에 응용하기에 적합한 광학적, 전기적 성질을 가지고 있는 재료이다.본 연구에서는 diethyl zinc (DEZ, (CH3CH2)2Zn)를 전구체로 사용하여 MOCVD 반응에 의해 Si 기판 위에 ZnO 박막을 합성하였다. DEZ과 산소 기체의 혼합비, 기판의 온도, 반응 압력 등이 성장속도, 표면형상 및 표면거칠기, 비저항, 광투과도 등에 미치는 영향을 α-step, SEM, XPS, XRD, 4-point probe, UV-VIS 분광기 등을 이용하여 조사하였으며, 증착 반응이 일어나는 과정의 표면반사도를 레이저빔과 포토미터를 사용해 in-situ로 측정하여 증착 초기 단계에 대해 분석하였다. 특히 산소 기체에 플라즈마를 인가하였을 때의 효과를 비교하였다. |
| 저자 | 이종인, 김준영, 서문규 |
| 소속 | 청주대 |
| 키워드 | ZnO; MOCVD; Plasma-enhancement; Surface reflectance |
