학회 | 한국화학공학회 |
학술대회 | 2011년 봄 (04/27 ~ 04/29, 창원컨벤션센터) |
권호 | 17권 1호, p.121 |
발표분야 | 공업화학 |
제목 | Preparation of Alumina Nanotubes by Anodization |
초록 | 알루미늄의 산화피막은 phosphoric acid, sulfuric acid, oxalic acid 등과 같은 전해질용액에서 알루미늄을 양극으로 백금전극을 음극에 각각 연결하여 전해질에 따른 최적 조건의 전압을 가하면 알루미늄의 표면에서 육각기둥 밀집배열 구조로나노다공성알루미나 산화피막이 형성된다. 본 실험에서는 표면처리과정을 거친 뒤, 2차 양극산화법으로 균일한 나노다공성 알루미나산화피막을 제조하였다.표면의 전처리 과정으로HClO4 (60%) : C2H4OH = 1 : 4 (vol%) 전해질하에서 20V로 양극산화법을 이용하여 표면 처리를 하였다.첫 번째 양극산화는0.3M oxalic acid전해질에서일정한 전압을 주었다. 양극 산화 동안 전해질의 온도는5°C이하의 저온의 상태를 유지하고, 시료에서 발생하는 열의 확산을 가속시키기 위해 마그네틱 바로 규칙적으로 교반하였다. 첫 번째 양극산화에 의해 알루미늄기판의 표면에 형성된 다공성 알루미나의 피막을 0.2M chromic acid, 0.4M phosphoric acid의 혼합액에 1hr 동안 처리하여 산화층을 제거하였다.이 후, 첫 번째 양극산화 조건과 같은 조건에서 두 번째 양극산화를 실시한다. 양끝이 뚫려있는 구조의 알루미나산화피막 제조를 위해 알루미늄 층을 5wt% HgCl2용액에서제거했다.알루미나의 배리어층을녹여내고 동공의 직경을 크게 하기 위하여 0.2M phosphoric acid 용액에서 동공 넓힘 과정(pore widening treatment)을 실시하여 양끝이 뚫린 나노다공성 알루미나 산화피막를 제조했다. |
저자 | 이영록, 김영진, 윤용호, 정지훈 |
소속 | 경기대 |
키워드 | 알루미나 양극산화 |
원문파일 | 초록 보기 |