| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2008년 봄 (05/22 ~ 05/23, 상록리조트) |
| 권호 | 14권 1호 |
| 발표분야 | 전자재료 |
| 제목 | 나노 임프린트 리소그래피와 수용성 고분자를 이용한 리프트 오프 공정 및 유연 기판위에 금속 패턴 형성 |
| 초록 | 최근 투명 디스플레이, 유기 전자 소자, 투명 전자 소자 등에 고분자 기판이 많이 사용되고 있다. 이러한 고분자 기판은 가볍고 투명하며, 휘어질 수 있고, 원하는 모양으로 모양을 형성하기 쉽다는 장점이 있다. 특히 유연 디스플레이에서 주로 사용하는 polyethylene-terephthalate(PET)기판은 투명성, 유연성, 내열성 등이 필요한 소자 제작에 많이 사용하고 있다. 하지만 유연 기판의 화학적, 물리적인 특성으로 인해 기존의 광리소그래피를 이용한 나노 패턴 형성이 매우 어렵다. 이에 비해 나노 임프린트 리소그래피는 비평면 유연 기판 위에 효과적으로 나노 패턴을 전사할 수 있다. 일반적으로 나노 임프린트 리소그래피를 이용하여 패턴을 형성하는 방법에는 직접 식각법과 리프트 오프법이 있는데, 이러한 공정은 식각이나 유기용제의 사용으로 인해 PET기판에 손상을 줄 수 있는 문제점이 있다. 본 연구에서는, 나노 임프린트 리소그래피와 물에 쉽게 용해가 가능한 poly-vinyl alcohol (PVA)을 하부 희생층으로 사용하여 리프트 오프 공정을 진행하였고, PET 기판 위에 금속 패턴을 형성하였다. PVA는 고분자 기판과 반응하지 않아 유기용제로 인한 손상을 주지 않고, 물을 이용한 친환경적인 공정을 진행할 수 있는 장점이 있다. 스핀 코팅을 통해 PVA 하부층을 PET기판 위에 형성한 뒤, 내식각성이 향상된 레진을 사용하여 PVA층 위에 380nm크기와 250nm의 높이를 갖는 무잔류층 고분자 나노 패턴을 전사하였다. 이후 O2 이온 반응 식각 공정을 통해 PVA층을 식각하였고, 금속을 증착하였다. 마지막으로 물을 이용하여 PVA층을 녹여, 최종적으로 PET기판 위에 금속 패턴을 형성 하였다. |
| 저자 | 황선용, 정호용, 이헌 |
| 소속 | 고려대 |
| 키워드 | 나노임프린트; 리프트 오프; 수용성고분자; 유연기판 |
