| 초록 |
고분자입자를 합성하는 기술은 유화중합, 무유화제 유화중합, 현탁중합 등 널리 알려져 있는데, 대략 100-500 nm 정도의 입자크기를 가지면서 균일한 입자의 제조방법은 무유화제 유화중합법이 유효한 것으로 알려져 있다. 안정한 콜로이드 입자를 합성하기 위해서는 대개 양이온성이나 음이온성의 전하를 부여하여 입자표면의 제타전위를 높여야 한다. 본 연구에서 이온성이 아니면서 표면의 높은 제타전위를 갖는 안정한 고분자 입자 및 분말을 중성매질에서 직접 합성하는 것을 목적으로 methacrylic acid (MA), poly(ethylene glycol)methyl ether methacrylate (PEG-MMA), poly(ethylene glycol) dimethacrylate (PEG-diMMA), 그리고 2-(perfluorobutyl)ethyl methacrylate (F-MMA)와 같은 공단량체를 이용하여 스티렌과 함께 무유화제 유화공중합을 하였다. 입자표면에 카르복실기와 PEG기를 동시에 갖는 폴리스티렌 입자 및 분말을 성공적으로 제조하였다. 모든 고분자분말은 FT-IR 분광기로 구조를 확인하였고, 광산란 입도 분석기와 주사전자현미경을 이용하여 입자크기와 분산도를 조사하였다. 또한 시차주사열량기를 사용하여 고분자분말의 유리전이온도를 측정하였고, 합성된 입자의 표면전하를 유전매질 내에서 ELS-8000 dynamic light scattering를 이용하여 측정하였다. 비이온성 공단량체, PEG-diMMA 혹은 PEG-MMA를 사용하여 유전매질에서 100 mV 이상의 높은 제타포텐셜을 갖는 고분자분말을 제조할 수 있었다.
|
