| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2003년 가을 (10/10 ~ 10/11, 부경대학교) |
| 권호 | 28권 2호, p.10 |
| 발표분야 | 특별 심포지엄 |
| 제목 | 전자빔 식각기술 원리와 응용 |
| 초록 | 나노스케일 소재 및 소자에 대한 연구가 활발해짐에 따라 전자빔 식각기술과 같은 기존 반도체 공정에 대한 관심이 보다 증폭되어 식각기술 자체에 대한 필요성과 이해도 많이 요구되고 있다. 나노선을 이용한 나노소자 연구, 분자전자소자 연구 등에서 나노스케일 전극형성에 있어서 전자빔 식각기술은 여전히 많이 쓰이고 있다. 전자빔 식각기술에는 전자빔의 위치와 노출시간을 제어하여 원하는 노출정도로 맞추어주는 전자장치, 패턴을 해석해서 전자장치에 보내주는 프로그램, 전자빔을 만들어주고 조사하는 전자현미경과 같은 진공장치, 패턴형성을 위한 기판과 패턴형성에 필요한 마스크 역할을 하게 되는 PMMA (Poly(methylmethacrylate))와 같은 전자빔 레지스터 등에 대한 종합적인 이해가 필요하다. 본 발표에서는 전자빔 식각기술의 원리와 구성기술간의 관계, 나노스케일 소자에의 응용 등에 걸쳐 소개하고 장단점, 기술의 한계 및 문제점 등과 앞으로의 발전방향에 대해 논의한다. |
| 저자 | 김규태 |
| 소속 | 고려대 |
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