| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2009년 봄 (05/21 ~ 05/22, 무주리조트) |
| 권호 | 15권 1호 |
| 발표분야 | 전자재료 |
| 제목 | UV-Nano Imprint Lithography를 이용한 Nano Pattern Array제작 |
| 초록 | Nano-Imprint Lithography(NIL) 공정기술은 기존의 photo lithography 한계를 극복하면서 선폭 32nm이하의 구현이 가능한 차세대 lithography 기술이며 상용화 단계는 아니지만 저비용으로 다양한 나노구조물 및 소자제작이 가능하여 활발하게 연구가 진행되고 있는 분야이다. 특히 패턴을 성형하는데 ultraviolet(UV)를 이용하는 UV-NIL기술은 빠른 공정시간과 낮은 수축율로 인하여 높은 생산성과 정밀도를 가지고 있으며, Nano Pattern의 제작에 있어서 기존의 hot embossing이나 thermal type의 NIL기술보다 실질적인 기대효과가 매우 크다. 본 연구에서는 NIL용 master로서 soft mold를 제작하여 UV-NIL공정을 진행하였으며 잔류층이 없는 200nm Dot Array를 제작하였다. 시편의 준비는 15mm×15mm 사이즈의 Si기판을 사용하였다. 기판과 resin과의 접착성을 향상시키기 위해 계면활성제를 spin coating한 후 UV Resin을 증착하였다. NIL mold는 quarts backplate에 soft stamp를 위한 polymer 재료를 dispencing한 후 가압하여 polymer 패턴을 성형하는 soft mold의 형태로 제작되었고, 이형성을 향상시키기 위하여 Self-Assembled Monolayer(SAM)를 처리하는 공정으로 진행되었다. NIL공정은 UV curing time, press pressure, delay time등을 변화 시키면서 실험을 진행하였으며, 형성된 NIL패턴과 잔류층 여부는 SEM(Scanning Electron Microscope)을 이용하여 분석하였고, 또한 반복 공정을 통하여 재현성을 확인하였다. |
| 저자 | 김택유, 박정갑, 이창형, 주범석, 김남정, 장주희, 최우성, 장재권, 서수정 |
| 소속 | 성균관대 |
| 키워드 | nano-imprint lithography; nano pattern |
