| 학회 |
한국고분자학회 |
| 학술대회 |
2007년 봄 (04/12 ~ 04/13, 제주 ICC) |
| 권호 |
32권 1호 |
| 발표분야 |
고분자 합성 |
| 제목 |
UV 경화가 가능한 폴리실세스키옥산 코팅제에 관한 연구 |
| 초록 |
본 연구에서는 UV경화가 가능한 메칠 메타크릴레이트 기능성기를 갖는 Polysilsesquioxane(PSQ)을 중합하였다. 이를 위하여 다양한 조성의Methyltriethoxysilane(MTES)과 3-Trimethoxypropyl methylmethacrylate silane(Si-MMA)를 졸겔반응을 이용하여 폴리실세스키옥산을 합성하였다. 여기에, 광개시제를 혼합함으로써 얻어진 UV경화가 가능한 하이브리드 재료를 가지고 최적화된 UV경화 조성비를 검토하였다. 그 결과, MTES와 Si-MMA의 비율은 6:4로 중합되었고 UV경화제는 Irgacure 184 6%, 2,2-Dimethoxy-2-phenyl-acetophenone(BDK) 3% 조건하에서 가장 효과적으로 광경화가 일어난 것을 알 수 있었다. 얻어진 Si-MMA의 특성분석은 1H NMR, 29Si NMR로 측정하였고 경화 후 열적 특성은 TGA와 FT-IR로 분석하였다. |
| 저자 |
김미선1, 황승상2, 홍순만2, 이응찬3, 김우년4, 백경열2
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| 소속 |
1고려대화공생명공학과 / 한국과학기술(연), 2한국과학기술(연), 3인터실리콘, 4고려대화공생명공학과 |
| 키워드 |
Sol-Gel; silsesquioxane
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