| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2010년 봄 (05/13 ~ 05/14, BEXCO(부산)) |
| 권호 | 14권 1호 |
| 발표분야 | 화학공정 |
| 제목 | 초임계 이산화탄소와 HF를 이용한 고 종횡비의 MEMS구조물 건식 에칭기술 |
| 초록 | 차세대 반도체 공정 기술과 관련하여 기존 습식 에칭(식각) 공정 및 초임계 건식 식각법의 한계를 극복하고자, 표면장력이 제로에 가까운 초임계 이산화탄소를 이용하여 희생 SiO2층에 대한 건식 에칭 실험을 진행하였다. 미량의 HF를 초임계 이산화탄소에 녹인 에칭용액을 사용하여, 희생막으로 사용되는 테트라에톡시 실란막 (TEOS막) 층에 대한 에칭 성능을, 초임계 공정의 압력과 온도, HF 농도에 따라 조사하였다. 그리고 캔틸레버 MEMS 패턴 웨이퍼 실험을 통해 초임계 이산화탄소 건식에칭방법으로 고종횡비 (1:150)의 미세 구조를 stiction 없이 제작할 수 있었다. |
| 저자 | 정재목, 임권택 |
| 소속 | 부경대 |
| 키워드 | 초임계 이산화탄소; MEMS; HF |
