| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2020년 가을 (11/18 ~ 11/20, 휘닉스 제주 섭지코지) |
| 권호 | 26권 1호 |
| 발표분야 | G. 나노/박막 재료 분과 |
| 제목 | 자외선 감광 고분자를 이용한 은나노와이어 투명전극의 무에칭 패터닝 방법에 대한 연구 |
| 초록 | 은나노와이어는 직경 15~25nm, 길이 10~30㎛의 종횡비가 매우 큰 막대형 나노입자이며, 이 입자들이 네트워크 그물 구조로 서로 연결되어 전도막을 형성할 수 있다. 매우 큰 종횡비와 은 소재의 낮은 비저항으로 인해 은나노와이어 전도막은 높은 가시광 투과도를 가지면서 낮은 면저항을 가질 수 있어, 디스플레이 분야의 투명전극을 비롯하여 투명히터, 투명 단열 필름 등 다양한 분야에 적용될 수 있다. 은나노와이어의 패터닝 방법에 있어서는 기존의 포토리소그래피 기반의 습식에칭, 건식에칭법, 레이져 scribing 방법이 적용될 수 있는데, 상업적 활용성을 고려하면 습식에칭 방법이 가장 유용하나, 습식에칭의 경우에도 은나노와이어와 관련된 불완전한 요소가 여전히 존재한다. 본 연구에서는 은나노와이어 투명전극의 패턴 형성법에 대한 것으로 기존의 에칭 기술을 활용하지 않고 감광성 고분자를 이용하여 에칭 공정 없이 패턴을 형성함으로써 보다 간편하고 불량이 줄어든 패터닝 기술을 제공할 수 있다. 실험 결과에 따르면 폴리비닐알콜계 감광고분자를 이용하여 자외선 노광, 세척 공정을 통해 투명전극의 절연 영역, 전도성 영역을 구분할 수 있었으며, 에칭없이 은나노와이어 전극의 패턴을 형성할 수 있었다. 절연영역에서는 20MΩ/sq의 높은 절연성을 보여 주었으며, 전도성 영역에서는 50Ω/sq 수준의 저항을 보였다. 두 영역 모두 광투과율 97%이상, 헤이즈 1% 이하의 광학적 특성을 보여주었다. |
| 저자 | 신권우 |
| 소속 | 전자부품(연) |
| 키워드 | <P>은나노와이어; 패터닝; 감광성; 무에칭</P> |
