| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2005년 봄 (05/26 ~ 05/27, 무주리조트) |
| 권호 | 11권 1호 |
| 발표분야 | 반도체재료 |
| 제목 | 반응성 스퍼터링법으로 제조된 TaNx 박막 저항체의 TCR 특성 변화 |
| 초록 | 전기, 전자, 우주, 자동차, 무기 등의 여러 분야에서 응용되고 있는 고정밀, 고저항체 박막인 TaNx 다층박막을 반응성 magnetron sputtering법으로 제조하여 질소분압에 따른 TCR 특성 변화를 조사하고, XRD와 SEM 관찰을 통하여 미세조직이 전기적 성질에 미치는 영향을 알아보았다. 제조된 TaNx 박막의 전기저항은 질소분압이 증가함에 따라 금속전도특성에서 이온전도특성으로 변화하였고, 뚜렷한 (-) TCR 특성을 나타내었다. 질소분압이 증가하면서 TaNx 상의 우선성장방향이 변화하고 분압 50% 에서 비정질화 되었으며, 박막의 표면 형상은 불연속 아일랜드 형태로 나타났다. 또한, TaNx/Cr 박막은 (+)의 TCR 특성을 가지는 Cr의 상쇄효과로 인하여 TCR 특성을 안정시킬 수 있었다. |
| 저자 | 최용락, 김선화, 송규호, 한승용, 정준혁 |
| 소속 | 순천향대 |
| 키워드 | TCR; Thin Film; TaNx; Reactive Sputtering |
