| 초록 |
2000년대 이후 전통적인 포토리소그래피에 의존하던 단순 적층식 공정에서 벗어나, 복잡한 3차원 미세구조를 제작하는데 최적화된 신개념의 3차원 나노패터닝 기술들이 다양하게 제안되었다. 이에 따라, 나노/마이크로미터 수준에서 높은 구조적 주기성 및 대칭성을 갖는 3차원 미세구조물을 비교적 손 쉽게 제작할 수 있게 되었고, 독특한 광학적/기계적/전기적 물성을 갖는 신소재들을 실험적으로 구현하고 탐구할 수 있게 되었다. 본 발표에서는 생산성, 재현성, 결함제어 등의 측면에서 보다 양산형에 가까운 형태로 진화한 근접장 나노패터닝(proximity-field nanopatterning, PnP) 기술의 원리 및 현황에 대해 집중적으로 소개하고자 한다. 특히, 기술의 핵심 요소라 할 수 있는 콘포말 위상 마스크(conformal phase mask)를 광학적/소재적으로 설계하는 방안에 대해 논의하고, 이를 바탕으로 제작된 인치급 3차원 나노구조소재를 활용한 고성능 센서, 열전 소자 등의 최신 응용 사례를 소개하고자 한다. |
