| 초록 |
본 연구에서는 RF-Magnetron 스퍼터링 장치를 이용하여 AlxTa1-x(x=0.0∼1.0) 합금박막을 6000Å두께로 성장하였고, XRD, AFM, Heat controller를 사용하여 시료의 구조적, 전기적 특성 등의 박막특성과 발열특성을 분석하였다. XRD 분석결과 Al 조성 x=0.245(Al 24.5 at%)에서 결정질이 가장 우수하였다. 표면 hillock에 있어서는 낮은 Al 조성영역에서는 x가 증가할수록 hillock이 감소하였다가 x=0.245에서 hillock이 완전히 배제되었고, 이후 x가 증가에 따라 hillock 밀도가 다시 급격히 증가하였다. Heat controller를 이용하여 전기적 특성과 발열현상을 측정한 결과 비저항, 최고전력, 최고온도의 값이 같은 형태의 그래프를 나타냈고 비저항, 최고전력, 최고온도의 값 모두 x=0.245∼0.30영역에서 가장 높게 나타났다. 본 연구의 모든 결과를 종합적으로 고려할 때 AlxTa1-x 합금박막의 결정질, 표면형상, 전기저항, 발열특성은 상호 밀접한 관계를 가지고 있으며, Al 조성 x=0.245∼0.30영역에서 가장 우수한 물리적 특성을 나타났다. |
