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번호	제목
45	Carbon contents control of low-k material with methane plasma 송석휘, 정찬원, 김영준, 김종우, 권유림, 전형탁 한국재료학회 2019년 가을 학술대회
44	SiNx deposition using CSN-2 and H2 and N2 plasmas by remote plasma atomic layer deposition Suhyeon Park, Chanwon Jung, Byunguk Kim, Jungwoo Kim, Yurim Kwon, Seokhwi Song, Hyeongtag Jeon 한국재료학회 2019년 봄 학술대회
43	Structural and Electrical characteristics of Low-k Silicon Oxycarbide thin film deposited via Remote Plasma Atomic Layer Deposition Yurim Kwon, Chanwon Jung, Jongwoo Kim, Suhyeon Park, Byunguk Kim, Seokhwi Song, Hyeongtag Jeon 한국재료학회 2019년 봄 학술대회
42	Characteristics of SiN_xthin films by Remote Plasma Atomic Layer Deposition using DTDN2-H2 precursor 임경필, 전형탁, 김현준, 정찬원, 조해원 한국재료학회 2018년 가을 학술대회
41	Dry cleaning of silicon oxide using OF₂/NH₃ remote plasma 김주은, 이원오, 김두산, 박진우, 염근영 한국재료학회 2018년 가을 학술대회
40	Atomic Layer Deposition of low-k SiCN Thin Films using DTDN-2 precursor 김현준, 임경필, 정찬원, 조해원, 전형탁 한국재료학회 2018년 가을 학술대회
39	Film Characteristics of low-k SiOC deposited by Atomic Layer Deposition 권영균, 전형탁 한국재료학회 2017년 가을 학술대회
38	The effect of plasma treatment during deposition process on remote plasma atomic layer deposited silicon nitride for charge trap layer 장우출, 김현정, 권영균, 신석윤, 임희우, 정찬원, 조해원, 전형탁 한국재료학회 2017년 봄 학술대회
37	Atomic Layer Deposited Gate Spacer for New Memory Devices 이재민, 장우출, 김현정, 권영균, 전형탁 한국재료학회 2016년 가을 학술대회
36	9Remote plasma ALD of Silicon nitride at low temperature for gate spacer 김만석, 장우출, 김현정, 이재민, 이건영, 신창희, 권영균, 임희우, 전형탁 한국재료학회 2016년 가을 학술대회