화학공학소재연구정보센터
번호 제목
4 Effect of Argon Gas Flow-Rate on Temperature Gradient at the Interface between Si Melt and Solid in Czochralski 450-mm Single Crystal-Silicon Growth
Hyung-Jin Kim, Jin-Seong Kim, In-Ji Lee, Gon-Sub Lee, Jea-Gun Park
한국재료학회 2008년 봄 학술대회
3 Prediction of Dynamic Heat Flux for 450mm Single Crystal Silicon Growth under CUSP Magnetic Field
Wan-Gam Song, Jin-Woo Jung, Joon-Hoi Kim, Gon-Sub Lee, Jea-Gun Park
한국재료학회 2006년 봄 학술대회
2 커스프 자기장 초클랄스키 공정에서 조업 변수와 실리콘 단결정에 대한 유동장의 열적 영향과의 관계 연구|Numerical Study on the Relation between Operating Parameters and the Melt-thermal Effect on the Silicon Crystal in a Cusp Magnetic Czochralski Process
김종선, 이태용|Jong-Seon Kim, Tai-yong Lee
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회
1 커스프 자기장 초클랄스키 공정에서 전류 루프들의 모양과 결정에 대한 유동장의 열적 영향과의 관계 연구|Study of the relation between the configurations of the counter-current loops and the melt-thermal effect on the silicon crystal in a Cusp Magnetic Czochralski process
김종선, 이태용|Jong-Seon Kim, Tai-yong Lee
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회