| 번호 | 제목 |
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Investigation of Co and CoSi2 formed by two step annealing with Ti capping layer 김현정, 박진규, 전희영, 장우출, 송효석, 전형탁 한국재료학회 2014년 봄 학술대회 |
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원자층 증착법을 이용한 고 단차 Co 박막 증착 및 실리사이드 공정 연구 송정규, 박주상, 이한보람, 윤재홍, 김형준 한국재료학회 2012년 봄 학술대회 |
| 4 |
Study on characteristics of cobalt film deposited by Remote Plasma ALD method 김근준, 이근우, 한세진, 정우호, 배규열, 전형탁 한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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Remote Plasma ALD 법을 사용한 Cobalt 및 Cobalt Silicide 막의 특성에 관한 연구|Study on characteristics of Cobalt and Cobalt-silicide film using metalorganic precursor by Remote Plasma ALD method 김근준, 전형탁, 이근우, 한세진, 정우호 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
| 2 |
Abnormal oxidation of cobalt silicide on arsenic implanted N+ active areas 이원규, 조일현 한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
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Arsenic 도즈 량에 따른 코발트 실리사이드 표면위의 이상 산화|Effect of As dose on Abnormal Growth of Oxide on CoSi2 조일현,성낙균,최경근,이종근,이원규|Ihl Hyun Cho,Nak Kyun Sung,Kyoung Keon Choi,Jeong-Gun Lee,Won Gyu Lee 한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
