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Mechanistic Study of Different Cleaning Methods to Remove Ceria Particles from Silicon Oxide Surface
한소영, 박진구, Samrina Sahir, Nagendra Prasad Yerriboina, 한광민
한국재료학회 2019년 가을 학술대회 |
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Investigation of Corrosion Inhibitor Induced Particle Contamination on Post Cu CMP Surface
이찬희, 류헌열, 황준길, 조휘원, 이유진, 김태곤, 박진구
한국재료학회 2019년 가을 학술대회 |
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Quantitative Comparison of Silica and Ceria Abrasive Contamination on PVA Brush and Its Effect on Post CMP Cleaning Process
조휘원, 류헌열, 황준길, 이찬희, 김여호, 김태곤, Nagendra Prasad Yerriboina, 박진구
한국재료학회 2019년 가을 학술대회 |
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Study on interaction between ceria and various silicon-based wafers for brand-new semiconductor cleaning process
명경규, 변진욱, 임태호, 김재정
한국화학공학회 2018년 가을 학술대회 |
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Evaluation of a photomask with a new functional coating that drastically reduces contamination
Byeongkyou Jin, Jangsik In, Daeyeol Yang, Ahyun Kwon, Jungchul Park
한국재료학회 2018년 가을 학술대회 |
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Study on Co oxide layer distribution and complexing agents for a next-generation cleaning process
권오성, 변진욱, 임태호, 김재정
한국화학공학회 2018년 봄 학술대회 |
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열유도상분리(TIPS) PVDF 분리막의 장기 안정성 평가
김지현, 이정우, 우승문, 남상용
한국공업화학회 2018년 가을 학술대회 |
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반도체 습식 세정 기술 개발 동향 및 계면화학을 응용한 세정제 개발
송명근
한국공업화학회 2018년 봄 학술대회 |
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Study on the Surface Potential Defects Behavior of P-type silicon wafer
신정원, 함호찬
한국재료학회 2017년 가을 학술대회 |
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Molten tin used for a working fluid of thermochemical conversion processes
문지홍, 이재구, 황정호, 이은도
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회 |
