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Fluorous solvent-soluble photoresist materials using photo-dimerization mechanism
박우원, 손종찬, 이진균
한국고분자학회 2016년 봄 학술대회 |
| 8 |
The Effect of Macromolecular Architecture on the Performance of Photoresists for Advanced Semiconductor Manufacture
George G. Barclay
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
| 7 |
The Investigation of Defect Generation by Water Droplet on the Chemically Amplified Photoresist
김정훈, 안성일, 김재현, 진왕철
한국고분자학회 2006년 봄 학술대회 |
| 6 |
Synthesis and Application of Polymer Containing Photo-acid Generator for Atomic Force Microscope Lithography
권기진, 장유진, 안석훈, 이해원
한국고분자학회 2006년 봄 학술대회 |
| 5 |
Synthesis of Novel Polymer Containing Photo-acid Generator and Its Application of Atomic Force Microscope Lithography
윤현진, 장유진, 권기진, 오희영, 이해원
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
| 4 |
Synthesis of Photoacid Generator Containing Resists for Atomic Force Microscope Lithography
윤현진, 오희영, 권기진, 이해원
한국고분자학회 2005년 봄 학술대회 |
| 3 |
Synthesis of 2-Hydroxyethyl methacrylate Based Copolymer by Atom Transfer Radical Polymerization and Its Application for Photoresist
심재혁, 김태호
한국고분자학회 2005년 봄 학술대회 |
| 2 |
Synthesis and Application of Functional Polysulfonium Salts for AFM Anodization Lithography
박상욱, 제갈진, 김용일, 이해원
한국고분자학회 2003년 가을 학술대회 |
| 1 |
Molecular Resists Based on t-Butyl Cholate Derivatives for 193-nm Photoresists
김진백, 오태환, 권영길
한국고분자학회 2002년 가을 학술대회 |
