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번호	제목
17	Thermal ALD와 Plasma Enhanced ALD기법을 사용해 제작된 HfO₂ 박막의 전기적 특성 및 Si/HfO₂ 계면 분석 안영환, 이왕곤, 김지웅, 서형탁 한국재료학회 2021년 가을 학술대회
16	Thermal atomic layer deposition of Molybdenum trioxide using metal organic precursor and H2O reactant. 이정훈, 최연식, 김병욱, 박현우, 이남규, 전형탁 한국재료학회 2021년 봄 학술대회
15	Development of Dry Etching for the InGaZnO Film using CH₄-Based Gas Chemistry with High Volatility of Etch By-Product 조현철, 정재경 한국재료학회 2020년 봄 학술대회
14	Atomic layer deposition of molybdenum films from molybdenum pentachloride and molybdenum dichloride dioxide 이창원, 이세원, 김무성, Sergei Ivanov 한국공업화학회 2019년 가을 학술대회
13	Very High Frequency Plasma - Enhanced 원자층 증착법을 통한 순수 코발트 박막 특성 연구 송창훈, 염원균, 이수정, 탁현우, 변지영, 염근영 한국재료학회 2018년 가을 학술대회
12	SAM/ALD 복합공정을 통한 초소수성 표면 특성 분석 김경덕, 신소라, 박종완 한국재료학회 2017년 가을 학술대회
11	Enhanced crystallinity of VO2 thin film by post annealing 김범식, 장우출, 정찬원, 조해원, 김현정, 임희우, 권영균, 전형탁 한국재료학회 2017년 가을 학술대회
10	Crystallinity and energy band structure of atomic layer deposited ZrO2 films using Cp-Zr precursor Hyoseok Song, Hyeongtag Jeon 한국재료학회 2015년 봄 학술대회
9	Poly-crystalline IGZO superlattice films with atomic layer deposited ZnO buffer layer and their thermoelectric properties 조성운, 권용현, 백승기, 김예균, 신재희, 조형균 한국재료학회 2014년 가을 학술대회
8	Improved Integration of high-K dielectric on MoS₂ by Using Metal Oxide Seed Layer 손석기, 유선문, 최문석, 김도형, 최창환 한국재료학회 2014년 봄 학술대회