| 번호 | 제목 |
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Initial nucleation for atomic layer deposition (ALD) of group III oxides: a quantum chemical comparative study ANSARI ABU SAAD, Shimeles Shumi Raya, 송봉근 한국화학공학회 2019년 봄 학술대회 |
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실리콘표면에서 화학흡착에대한 메커니즘 연구|Mechanistic study of chemical adsorption on silicon surface 이희순, 장현주, 최철호 한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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Tetrakis(diethylamido)zirconium (TDEAZr)의 Si(100) 표면에서의 열분 해에 대한 표면 화학 연구|Surface Chemistry Study for Thermal Decomposition of Tetrakis(diethylamido)zirconium (TDEAZr) on Si(100) 정준희,임성원,용기중|Joonhee Jeong,Sungwon Lim,Kijung Yong 한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
