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번호	제목
18	Carbon contents control of low-k material with methane plasma 송석휘, 정찬원, 김영준, 김종우, 권유림, 전형탁 한국재료학회 2019년 가을 학술대회
17	SiNx deposition using CSN-2 and H2 and N2 plasmas by remote plasma atomic layer deposition Suhyeon Park, Chanwon Jung, Byunguk Kim, Jungwoo Kim, Yurim Kwon, Seokhwi Song, Hyeongtag Jeon 한국재료학회 2019년 봄 학술대회
16	Structural and Electrical characteristics of Low-k Silicon Oxycarbide thin film deposited via Remote Plasma Atomic Layer Deposition Yurim Kwon, Chanwon Jung, Jongwoo Kim, Suhyeon Park, Byunguk Kim, Seokhwi Song, Hyeongtag Jeon 한국재료학회 2019년 봄 학술대회
15	Characteristics of SiN_xthin films by Remote Plasma Atomic Layer Deposition using DTDN2-H2 precursor 임경필, 전형탁, 김현준, 정찬원, 조해원 한국재료학회 2018년 가을 학술대회
14	Atomic Layer Deposition of low-k SiCN Thin Films using DTDN-2 precursor 김현준, 임경필, 정찬원, 조해원, 전형탁 한국재료학회 2018년 가을 학술대회
13	Film Characteristics of low-k SiOC deposited by Atomic Layer Deposition 권영균, 전형탁 한국재료학회 2017년 가을 학술대회
12	The sulfur annealing effect of WCN thin film by atomic layer deposition 이승진, 신석윤, 함기열, 박주현, 김현정, 이주현, 최형수, 전형탁 한국재료학회 2016년 봄 학술대회
11	The Chracteristics of SiO₂ Thin Film Deposited by Remote Plasma Atomic Layer Deposition using BTBAS precursor Hyeongtag Jeon, Honggi Kim 한국재료학회 2015년 가을 학술대회
10	Al₂O₃ Thin Fim Density Dependence for Passivation Layer 신석윤, 함기열, 이주현, 서원덕, 전형탁 한국재료학회 2015년 봄 학술대회
9	Characteristics of TiO₂ thin film by remote plasma atomic layer deposition using a novel Ti precursor Chunho Kang, Heeyoung Jeon, Woochool Jang, Hyunjung Kim, Hyoseok Song, Honggi Kim, Hyeongtag Jeon 한국재료학회 2014년 가을 학술대회