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Quasi-Atomic Layer Etching of SiO2 Layers for Surface Cleaning of Nanoscale Patterns with Fluorocarbons having Low Global Warming Potential
김용재, 채희엽, 조예근, 이상인
한국화학공학회 2018년 가을 학술대회 |
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Plasmonic Gold Nanoparticles Arrays on Disposable Plastic Substrates for Localized Surface Plasmon Resonance Sensor
송민우, 이두용, 박희정, 이승현
한국공업화학회 2016년 봄 학술대회 |
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RF Plasma Cleaning System을 이용한 광학렌즈 세정에 미치는 CF4 및 N2 Gas 영향에 관한 연구
홍주형, 김상식, 신중욱
한국공업화학회 2006년 봄 학술대회 |
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SiP(System in Package) 조립공정시 소자 Solder 접합부의 접합강도에 미치는 Plasma 공정 변수의 영향|Effects of Plasma Process Parameter on Bond Strength of Component Solder Joints in SiP (System in Package) Assembly Process
송영식, 이용원
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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The application of atmospheric pressure plasma on the surface cleaning
정미희, 권오준, 양인영, 최호석
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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UV/O3와 ECR plasma를 이용한 실리콘 웨이퍼상의 유기오염물의 건식세정|UV/O3와 ECR plasma를 이용한 실리콘 웨이퍼상의 유기오염물의 건식세정
이종무
한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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대기압 플라즈마를 이용하여 Si-wafer photoresist 제거실험에 관한 연구
정미희, 최호석
한국화학공학회 2004년 봄 학술대회 |
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자외광 여기 NF3/H2 가스를 사용한 웨이퍼 세정 공정에서 자연 산화막 제거의 반응 기구|Reaction mechanism of the removal of native oxide in wafer cleaning process employing UV excited NF3/H2
권성구, 백종태, 김도현|Sung-Ku Kwon, Jong-Tae Baek, Do-Hyun Kim
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
