| 번호 | 제목 |
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Organic solvent를 이용한 Ge 및 GaAs 상 photoresist 제거 오은석, 김솔바로, 이승효, 임상우 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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이온 주입된 photoresist stripping 공정에서 발생된 잔존물의 구조적 분석 노진규, 조성훈, 원수현, 최병호 한국재료학회 2013년 봄 학술대회 |
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플라즈마내의 이온 충격을 이용한 Photoresist strip 용액의 활성화방법 연구 김수인, 이창우 한국재료학회 2008년 봄 학술대회 |
