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Metal Chalcogenide based- Photoresists with Chemical Amplified Ligand
전승주, 김예진, 황도훈, 김명길, 임보규
한국고분자학회 2022년 봄 학술대회 |
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Molecular materials Containing a Large amount of Iodine as a Sensitizer to Improve the Performance of Extreme UV Resist
박한빛, 이진균, 구예진
한국고분자학회 2021년 봄 학술대회 |
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Synthesis of of Fluorinated Alternating Copolymer and Photolithographic Characterization under High energy Electron-beam and EUV radiation
구예진, 이진균
한국고분자학회 2020년 봄 학술대회 |
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Highly soluble fluorous alkyl ether-tagged imaging materials for the photo-patterning of organic light-emitting diodes
원종인, 손종찬, 이진균
한국고분자학회 2018년 가을 학술대회 |
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Positive Type Photosensitive Polyimide Patterning: Effect of Cross-linkers (XLs)
도선정, 가재원, 이성구, 원종찬, 이미혜, 김진수
한국고분자학회 2016년 봄 학술대회 |
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Highly soluble fluorous imaging materials for patterned organic light emitting diodes.
손종찬, 이아름, 박우원, 권오준, 정병준, 이진균
한국고분자학회 2016년 봄 학술대회 |
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Triphenylsulfonium Triflate Bound- and Blended-Polymer Resists for Electron Beam Lithography
권오정, 김민정, 손경화, 강하나, 김은광, 이해원
한국고분자학회 2011년 가을 학술대회 |
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Synthesis and Application of Triphenylsulfonium triflate Containing PMMA-Based Resist for Lithography
손경화, 김민정, 이해원
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
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Photoacid Generator Bound PMMA-Based Resist for nanostructure Fabrication
이해원, 김민정, 손경화, 해먼트 수렌드라 몬드카
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
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Synthesis of novel terpolymer bounded PAGand Their Application as Electron beam Resists
김민정, 이고은, 유재범, 손경화, 이해원
한국고분자학회 2010년 봄 학술대회 |
