| 번호 | 제목 |
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Photo-resist Etching in Si(100) Wafer Cleaning through Large Area He/O2 and Ar/O2 Plasma Source at Atmospheric Pressure 정미희, 최호석 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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The application of atmospheric pressure plasma on the surface cleaning 정미희, 권오준, 양인영, 최호석 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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He/O2 플라즈마 전처리를 통한 산화막 계면 특성 개선 효과|The improvement effect of He/O2 plasma pretreatment for SiO2/Si interface property 김효욱, 이청, 이시우|Hyo-Uk Kim, Chung Yi, Shi-Woo Rhee 한국화학공학회 2000년 가을 학술대회 |
