| 번호 | 제목 |
|---|---|
| 8 |
높은 내식각성을 갖는 EUV lithography(EUVL)용 고불소화 주석산화물 레지스트의 합성 및 리소그래피 특성 평가 안형주, 우지훈, 구예진, 이진균 한국고분자학회 2022년 봄 학술대회 |
| 7 |
Metal Chalcogenide based- Photoresists with Chemical Amplified Ligand 전승주, 김예진, 황도훈, 김명길, 임보규 한국고분자학회 2022년 봄 학술대회 |
| 6 |
Molecular materials Containing a Large amount of Iodine as a Sensitizer to Improve the Performance of Extreme UV Resist 박한빛, 이진균, 구예진 한국고분자학회 2021년 봄 학술대회 |
| 5 |
Polymeric Materials for Extreme UV Lithography 김재현, 이재우, 오승근, 이정열, 김정식 한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
| 4 |
Surfactant-Assisted Orientation of Thin Diblock Copolymer Films 차국헌, 손정곤 한국고분자학회 2007년 봄 학술대회 |
| 3 |
Control of PS-b-PMMA Block Copolymer Thin Films Orientation using Surfactants 손정곤, Xavier Bulliard, 강희만, Paul Nealey, 차국헌 한국화학공학회 2007년 봄 학술대회 |
| 2 |
High Performance Resists for Sub-100 nm EUV Lithographic Patterning 최재학, 노영창, 홍성권 한국공업화학회 2006년 봄 학술대회 |
| 1 |
Synthesis and Characterizations of Poly(oxyethylene) Derivatives and Polysiloxane Derivatives for Extreme-UV Lithography 류현수, 이종찬 한국고분자학회 2005년 봄 학술대회 |
