화학공학소재연구정보센터(CHERIC) | 연구정보 | 문헌DB

학술대회 목록보기

번호	제목
16	3D Feature profile simulation toward next generation high aspect ratio contact hole etching process under fluorocarbon and additive gas plasma 박재형, 유혜성, 유동훈, 임연호 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
15	Improved electric properties of Ga-doped ZnO thin films after O₂plasma post-treatment 진호원, 이은지, 이제원 한국재료학회 2017년 가을 학술대회
14	Control Strategies for Plasma Etching Process of Si in SF₆/O₂ 한종훈, 구준모, 하대근, 박담대 한국화학공학회 2015년 가을 학술대회
13	딥 코팅법으로 증착된 알루미늄 도핑된 산화아연 박막의 산소 플라즈마 처리에 따른 전기,광학적 효과 김성익, 이은지, 허수진, 진호원, 조관식, 이제원 한국재료학회 2015년 봄 학술대회
12	CCP (Capacitively Coupled Plasma)-type Reactor에서 VHF (Very High Frequency) Generator를 이용한 ACL (Amorphous Carbon Layer)에 관한 식각 특성연구 권용현, 신경섭, 황기현, 염근영 한국재료학회 2014년 가을 학술대회
11	Etching Characteristics by using Pulse-Time-Modulation in 60 MHz/2 MHz Dual-Frequency Capacitive Coupled Plasma 이철희, 염근영 한국재료학회 2014년 봄 학술대회
10	Characteristics of Low Temperature Al₂O₃ Encapsulation for Organic Devices by Remote Plasma Atomic Layer Deposition 오주홍, 최학영, 신석윤, 박주현, 함기열, 최용혁, 전형탁 한국재료학회 2014년 봄 학술대회
9	유도결합플라즈마에서 CO/NH₃가스를 이용한 Magnetic Tunneling Junction(MTJ) layer 식각 김성희, 전민환, 염근영 한국재료학회 2012년 봄 학술대회
8	축전 결합형 O₂ 플라즈마를 이용한 아크릴과 폴리카보네이트의 식각 공정 비교 (Comparison of Capacitively Coupled O₂Plasma Etching of PMMA and Polycabonate at Different Process Regime) 박주홍, 이성현, 노호섭, 최경훈, 조관식, 이제원 한국재료학회 2009년 봄 학술대회
7	O₂/SF₆/CH₄ 플라즈마를 이용한 Acrylic의 건식 식각 박연현, 주영우, 김재권, 노호섭, 조관식, 이제원 한국재료학회 2008년 가을 학술대회