| 번호 | 제목 |
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Lithography 공정에서 사용되는 Blank Mask 제작을 위한 Quartz 기판 연마용 Ceria 입자분산평가 서영길, 김혁민, Xiong Hailin, 문덕주, 박진구 한국재료학회 2013년 가을 학술대회 |
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The evaluation of ceria slurry for blank mask polishing for Photo-lithography process 김혁민, 권태영, 조병준, 박진구 한국재료학회 2011년 봄 학술대회 |
