| 11 |
Characteristics of Field Effect Transistor of Tin Disulfide Deposited by Atomic Layer Deposition at Low Temperatures
이주현, 함기열, 신석윤, 최형수, 이남규, 전형탁
한국재료학회 2017년 봄 학술대회 |
| 10 |
Optimization of tin monosulfide thin film by atomic layer deposition
최형수, 신석윤, 박주현, 함기열, 이주현, 이승진, 전형탁
한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
| 9 |
The sulfur annealing effect of WCN thin film by atomic layer deposition
이승진, 신석윤, 함기열, 박주현, 김현정, 이주현, 최형수, 전형탁
한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
| 8 |
Characteristics of Layered Tin Disulfide Deposited by Atomic Layer Deposition
전형탁, 최형수, 이승진, 서원덕, 이주현, 박주현, 신석윤, 함기열
한국재료학회 2015년 가을 학술대회 |
| 7 |
Al2O3 Thin Fim Density Dependence for Passivation Layer
신석윤, 함기열, 이주현, 서원덕, 전형탁
한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
| 6 |
Characteristics of Low Temperature Al2O3 Encapsulation for Organic Devices by Remote Plasma Atomic Layer Deposition
오주홍, 최학영, 신석윤, 박주현, 함기열, 최용혁, 전형탁
한국재료학회 2014년 봄 학술대회 |
| 5 |
Characteristics of Tin Sulfide Grown Thin films using Tetrakis(dimethylamino)Tin and Hydrogen Sulfur by Atomic Layer Deposition
함기열, 신석윤, 박주현, 오주홍, 전형탁
한국재료학회 2013년 가을 학술대회 |
| 4 |
Effects of Al2O3/ZrO2 Nanolaminate Deposited by Remote Plasma Atomic Layer Deposition for Moisture Barrier Properties
최용혁, 전형탁, 이상헌, 최학영, 신석윤, 박주현, 정현수, 함기열, 양희왕, 오주홍
한국재료학회 2013년 봄 학술대회 |
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The study of the electric characteristics of a-IGZO TFT with TiN/Cu electrode depending on the thickness of TiN as an adhesion layer
이상헌, 박주현, 최학영, 신석윤, 함기열, 김지훈, 전형탁
한국재료학회 2012년 봄 학술대회 |
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Improvement in the bias stability of IGZO thin film transistors using Al2O3 buffer layer growth on Si3N4 dielectric layer
박주현, 방석환, 이승준, 고영빈, 최학영, 신석윤, 김지훈, 함기열, 이상헌, 전형탁
한국재료학회 2011년 가을 학술대회 |
