번호 | 제목 |
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2 |
EUV 리소그래피 공정에서 미세 오염입자에 의한 영향 및 오염입자 제거를 위한 세정공정 연구 박진구, 오혜근, 김인선, 김민수, 김현태, 이준, 최인찬, 장성해 한국재료학회 2015년 가을 학술대회 |
1 |
반도체용 포토마스크 보호를 위한 펠리클 프레임 제조 시 발생되는 오염물 제거를 위한 세정 공정 개발 김현태, 박진구, 강봉균, 김민수, 조윤식, 문정일 한국재료학회 2013년 가을 학술대회 |
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EUV 리소그래피 공정에서 미세 오염입자에 의한 영향 및 오염입자 제거를 위한 세정공정 연구 박진구, 오혜근, 김인선, 김민수, 김현태, 이준, 최인찬, 장성해 한국재료학회 2015년 가을 학술대회 |
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반도체용 포토마스크 보호를 위한 펠리클 프레임 제조 시 발생되는 오염물 제거를 위한 세정 공정 개발 김현태, 박진구, 강봉균, 김민수, 조윤식, 문정일 한국재료학회 2013년 가을 학술대회 |