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금속이 담지된 다공성 실리콘의 전기화학적 특성
장은정, 박지훈, 전법주, 이중기
한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
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ECR-MOCVD에 의해 고분자 필름에 증착된 투명주석산화막의 특성에 관한 DC bias의 영향
전법주, 이중기, 김연석
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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Influence of acid pretreatment on the adhesion of copper-coated PET film prepared by ECR-MOCVD
전법주, 명상덕, 변동진, 이중기
한국화학공학회 2004년 봄 학술대회 |
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수소(운반기체)를 사용하여 제조된 Iron silicide 막의 특성|The Characteristics of Iron Silicide Films Prepared by Using Hydrogen(Carrier Gas)
김경수, 전법주, 윤용수, 정일현|Kyung-soo Kim, Bup-ju Jeon, Yong-soo Yoon, Il-hyun Jung
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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Titanium Disilicide 막의 제조 특성|The Manufacturing Characteristics of Titanium Disilicide Films
모만진, 전법주, 김정규, 정일현|Man-Jin Mo, Bup-Ju Jeon, Jung-Gyu Kim, Il-Hyun Jung
한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |
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친수성 표면개질에 미치는 O2/N2 플라즈마의 영향|The Effect of O2/N2 Plasma on the Hydrophilic Surface Modification
황승노, 김인환, 전법주, 정일현|Seung-No Hwang, In-Hwan Kim, Bup-Ju Jeon, Il-Hyun Jung
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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CHF3 플라즈마 고분자에 의한 복합막 제조|The Preparation of Composite Membranes by using Plasma Polymer of CHF3
현상원, 전법주, 윤용수, 정일현|Sang-Won Hyun, Bup-Ju Jeon, Yong-Soo Yoon, Il-Hyun Jung
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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ECR플라즈마를 이용한 화학증착법에 의해 제조된 실리콘 산화막의 전기적특성|Electrical Characteristics of Silicon Oxide Films Prepared by Chemical Vapor Deposition Method Using ECR Plasma
전법주, 허정수, 오인환*, 임태훈*, 윤용수, 정일현|Bup-Ju Jeon, Jung-Soo Heo, In-Hwan Oh*, TaeHoon Lim*, Yong-Soo Youn, Il-Hyun
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
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실리콘의 Orientetion이 산소 플라즈마에 의해 제조된 실리콘 산화막의 전기적 특성에 미치는 영향|Effect of Silicon Orientation on the Electrical Properties of SiO2 Using Oxygen Plasma
허정수, 전법주, 오인환*, 임태훈*, 정일현|Jung-Soo Heo, Bup-Ju Jeon, In-Hwan Oh*, Tae Hoon Lim*and Il-Hyun Jung
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
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ECR 플라즈마를 이용한 화학증착법및 건식산화법에 의해 제조된 실리콘 산화막의 특성
전법주, 허정수, 오인환, 임태훈, 윤용수, 정일현
한국화학공학회 1996년 봄 학술대회 |
